Modellering af planare spoler i CMOS

Gennem anvendelse af en 2.5D EM-simulator er epitaxial-substratets indflydelse på spoleperformance blevet studeret. Simuleringsmodellen er blevet tilpasset og verificeret med målinger på oktagonal-spoler implementeret i en sub-mikrometer CMOS process. Indflydelsen af epitaxial-lagets permittivitet, tykkelse, samt resistivitet på spolers godhed, induktans, samt frekvensgang er undersøgt gennem parameter sweeps. Resultaterne der er publiceret ved NORCHIP konferencen viser at typisk anvendte epitaxial substrater har afgørende indflydelse på spolers kvalitet. Gruppen støttes af STVF, Akademiet for de Tekniske Videnskaber, Det Obelske Familiefond, Den Europæiske Union, Siemens Mobile Phones, Maxon Cellular Systems (Denmark), Texas Instruments, RTX Telecom, Telital R&D Denmark, Europractice. (Rasmus Andersen, Ole Kiel Jensen)